設備名稱 

1200℃等離子增強HPCVD回轉爐系統(tǒng)—OTF-1200X-II-PEC4 

產(chǎn)品提示

 1、多種配件可選提示   2、特殊設備尺寸設備   3、科晶實驗室邀請?zhí)崾?nbsp;  4、配件妥善保管提示

產(chǎn)品特點

 ? 爐體可在0 ~ 25°內(nèi)傾斜有利于粉末樣品的裝入和取出

 ? 射頻電源可實現(xiàn)等離子增強從而顯著降低實驗溫度 

? 齒輪驅動管式爐旋轉可有效地提高復合粉末熱處理的均勻性

 ? 4通道質子流量計控制系統(tǒng)可以對氣體的輸送進行精確的調控 

? 集成在前端的帶鎢絲加熱的坩堝舟可以對前驅體進行蒸發(fā)用于后續(xù)的混合物理化學氣相沉積階段。

加熱爐參數(shù)

 ? 最高溫度：1200oC（<30min），連續(xù)工作溫度：1100℃；

 ? 兩個PID溫度控制器及30段可編程溫控系統(tǒng)；

 ? 輸入功率：208-240V，單相，最大功率：2.5KW；

 ? 高純氧化鋁纖維保溫層可以最大限度降低能耗； 

? 回轉爐旋轉速度：2-10rpm；

 ? 爐體開啟式設計，以達到對樣品快速降溫，方便更換爐管。

蒸發(fā)舟參數(shù)

 ? 0.7mL氧化鋁坩堝（由鎢絲加熱圈包圍）；

 ? S型熱電偶插入坩堝中實現(xiàn)對蒸發(fā)物料的精確測溫；

 ? 最高溫度可達1300℃（＜1h），長期使用溫度：1200℃（當管內(nèi)溫度達800℃時，蒸發(fā)舟溫度可達1500℃）。

射頻電源

真空系統(tǒng) 

? 采用TRP-12的雙旋真空泵；

? KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵；

? 真空度可達10-2Torr。

供氣系統(tǒng)

 ? 四通道質子流量計控制系統(tǒng)可實現(xiàn)氣體流量的精確控制（精確度：±0.02%）； 

 ? 流量范圍:一路 0-100 sccm二路 0-200 sccm三路 0-200 sccm四路 0-500 sccm 

 ? 電壓：208-240V， AC， 50/60Hz； 

 ? 氣體進出口配件：6mm OD的聚四氟管或不銹鋼管；

 ? 不銹鋼針閥用于手動控制氣體進出；

  ? PLC觸摸屏可以簡便地進行氣體流量設置。

產(chǎn)品尺寸和重量 

? 爐體尺寸：2800mm L ′ 800mm W ′1700mm H； 

? 混氣系統(tǒng)尺寸：600mmL′850mm W′700mm

? 凈重：180kg

承諾 

? 一年質保期，終身維護（不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件）

 ? 因使用腐蝕性氣體和酸性氣體造成的損害不在保修范圍內(nèi)。